光学镀膜手机壳-光学镀膜-仁睿电子科技

东莞市仁睿电子科技有限公司是国内一批电子部件加工供应商。专注PMMA/PC材料注塑、渐变、加硬（硅化）、印刷、光学镀膜等整套工艺十五年。

喷点形成的原因

镀膜过程中产生喷点主要有以下几种原因:

1、镀膜材料纯度不高，光学镀膜，含杂质较多，预熔过程中无法将这些杂质去除，蒸镀过程中杂质溅上工件表面形成喷点。

2、材料较为潮湿，预熔时电子枪光斑不能将表面的材料全部熔化，在蒸镀过程中也容易产生喷点(这种情况在用国产电子枪镀制MgF2及一些直接升华的材料时较易发生)。

3、镀膜前对材料进行预熔时不够充分，光学镀膜手机壳，蒸镀过程中材料里的细小颗粒溅上工件表面形成喷点。

4、镀膜过程中，光学镀膜加工厂家，电子枪束流过大引起的材料飞溅产生的喷点。

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干涉滤光片

是种类很多、结构复杂的一类光学薄膜。它的主要功能是分割光谱带。***常见的干涉滤光片是截止滤光片和带通滤光片。截止滤光片可以把所考虑的光谱区分成两部分，一部分不允许光通过（称为截止区），另一部分要求光充分通过（称为带通区）。按照通带在光谱区的位置又可分为长波通和短波通二种，它们简单的结构分别为，这里H、L分别表示厚的高、低折射率层，m为周期数。具有以上结构的膜系称为对称周期膜系。如果所考虑的光谱区很宽或通带透过率的波纹要求很高，膜系结构会更加复杂。

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光学镀膜材料编辑

常见的光学镀膜材料有以下几种：

1、氟化镁

材料特点：无色四方晶系粉末，纯度高，用其制备光学镀膜可提高透过率，不出崩点。

2、二氧化硅

材料特点：无色透明晶体，光学镀膜工艺，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高质量Si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。

3、氧化锆

材料特点 白色重质结晶态，具有高的折射率和耐高温性能，化学性质稳定，纯度高，用其制备高质量氧化锆镀膜，不出崩点。

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