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可以预见，随着真空技术和材料技术的发展以及钢铁行业对发展新型钢材的迫切要求，带钢真空镀膜必将成为带钢表面处理的一种重要的工艺技术，具有良好的发展前景。它为发展新型带钢材料提供了一个重要手段。

相对于传统的电解镀，热浸镀来说，真空镀膜的主要特点是：不使用***气体、液体，对环境无不利影响。在当前越来越重视环保的大趋势下，这点极其可贵。

全电介质反射膜是建立在多光束干涉基础上的。与增透膜相反，在光学表面上镀一层折射率高于基体材料的镀膜，就可以增加光学表面的反射率。简单的多层反射膜是由高、低折射率的二种材料交替蒸镀而成的,每层膜的光学厚度为某一波长的四分之一。在这种条件下，参加叠加的各界面上的反射光矢量，振动方向相同。合成振幅随着薄膜层数的增加而增加。

原则上说，全电介质反射膜的反射率可以无限接近于1，但是薄膜的散射、吸收损耗限制了薄膜反射率的提高。迄今为止，激光反射膜的反射率虽然已超过99.9%，但有一些工作还要求它的反射率继续提高。应用于强激光系统的反射膜，则更强调它的抗激光强度，围绕提高这类薄膜的抗激光强度所开展的工作，使这类薄膜的研究更加深入。

又称增透膜，它的主要功能是减少或消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光，从而增加这些元件的透光量，减少或消除系统的杂散光。

简单的增透膜是单层膜，它是镀在光学零件光学表面上的一层折射率较低的镀膜。当镀膜的折射率低于基体材料的折射率时,两个界面的反射系数r1和r2具有相同的。

在理论上，不但镀膜的生长机理需要搞清光学镀膜，而且镀膜的光学理论，特别是应用于极短波段的光学理论也有待进一步完善和改进。